Описание
Вакуумный универсальный пост ВН-2000 – модернизированная версия универсального научно-технического комплекса ВУП-5М, обеспечивающего работу в вакуумной камере (объеме). Отличается от аналогов низким энергопотреблением, широким спектром применения, большим диапазоном настройки рабочих параметров и компактными габаритами.
Назначение
Комплекс (вакуумный пост) ВН-2000 предлагает набор оборудования для формирования стабильной рабочей среды (вакуума) для ведения различных исследовательских или производственных работ в области формирования тонких пленок металлов, диэлектриков или полупроводников. Кроме того, функционал устройства позволяет проводить операции термического испарения или ионного травления поверхностей посредством дискретного испарителя, а также прибора нагрева и осаждения с целью дальнейшего изучения поверхностей, обработанных образцов различными методами, включая электронную микроскопию.
Научно-исследовательский вакуумный комплекс ВН-2000 – это специализированная установка, выполненная в форм-факторе модульного прибора, состоящего из трех компонентов: технический шкаф, пульт управления и рабочая камера. В техническом шкафу расположены комплект блоков питания, трансформаторы, распределительный блок, устройство формирования вакуума, турбомолекулярный насос и система охлаждени. Рабочая камера выполнена в форме герметичного цилиндрического прибора с необходимой технической оснасткой. Пульт управления включает средства настройки рабочих параметров комплекса, а также приборы визуального контроля его текущего состояния.
Характеристики
|
Директория УРП назвала товар |
Вакуумный пост ВН-2000 |
|
Принадлежность к типу |
Вакуумный пост, универсальный, автоматизированный |
|
Параметры сети питания |
Переменный ток, 380 В или 220 В/ 50 Гц |
|
Мощность, потребляемая устройством, кВА |
1,9 |
|
Мощность, потребляемая устройством при подключении дополнительного оборудования, максимум, кВА |
5,0 |
|
Напряжение выходит из блока питания, максимум, кВ |
7,0 |
|
Напряжение на блоке питания магнетрона без подключения нагрузки, максимум, кВ |
0,9 |
|
Ток магнетрона, минимум, мА |
300,0 |
|
Ток накала испарителя, максимум, А |
200,0 |
|
Ток тлеющего разряда, мА |
47,0 |
|
Диапазон регулировки тока в источнике с резистивным испарителем, А: - испаритель 1 - испаритель 2 |
От 5,0 до 200,0 От 3,0 до 50,0 |
|
Магнетрон от блока питания подает ток не более, чем уровень, мА |
300,0 |
|
Ток при ионном травлении и очистке, максимум, мА |
100,0 |
|
Температура столика для проведения процедуры нагрева образцов, °С |
1100,0 |
|
Температура столика для проведения процедуры охлаждения образцов, °С |
-160,0 |
|
Температура нагрева в месте, где расположена подложка устройства осаждения и нагрева, минимум, °С |
300,0 |
|
Время нагрева подложки устройства осаждения и нагревательных действий до температуры размером 300 °С, максимум, мин. |
30,0 |
|
Время смены подложек, максимум, сек |
7,0 |
|
Скорость вращения подложек, сек-1 |
0,5 |
|
Предельный размер остаточного давления в рабочем объеме установки, максимум, Па |
1,3*10-4 |
|
Время снижения рабочего объема от атмосферного давления до размера давления 2,0*10-3 Па, максимум, мин. |
15,0 |
|
Допустимая температура окружающей рабочей среды, °С |
От +15,0 до +25,0 |
|
Диаметр мишени, мм |
40,0 |
|
Диаметр подложки, максимум, мм |
70,0 |
|
Габаритные характеристики (размер) установки, мм |
1550х910х547 |
|
Весовые характеристики (масса) всей установки |
300 килограмм |
